thermocera基板加熱的加熱器介紹

發(fā)布日期：2023-03-24      瀏覽次數(shù)：1173

thermocera基板加熱的加熱器介紹

用于PVD（氣相沉積/濺射）和CVD等真空薄膜實驗的“超高溫基板加熱加熱器"
具有優(yōu)異的均勻性，溫升特性和可控性，并且易于操作。

• BH加熱器：用于大學研究機構(gòu)。 采用康塔爾和C/C復合材料。 外殼和防護罩作為標準設計，以實現(xiàn)較短的交貨時間和低廉的價格。

• VH加熱器：采用SiC3，TiC3涂層，PG / PBN擴大了應用范圍。 與BH一樣，零件和材料是標準化的，以實現(xiàn)較短的交貨時間和低廉的價格。

• HT加熱器：為超高溫區(qū)域定制的加熱器。 此外，即使在惡劣的條件下，也可以實現(xiàn)穩(wěn)定均勻的加熱。 我們每次都會根據(jù)您的要求進行設計。

• SH加熱器：由于氣密結(jié)構(gòu)，材料和沉積物不會滲透到內(nèi)部，并且可以長時間進行穩(wěn)定的加熱。 推薦用于 CVD 實驗。









BH基板加熱加熱器

PVD、退火、高溫樣品臺等
Φ1英寸、Φ2英寸、Φ4英寸

 

• 康塔爾（最高 800°C）

• C/C 復合材料 （最高1600°C）

• 鉭（最高1200°C）









VH基板加熱加熱器

PVD，高壓/特高壓，惰性/反應氣體
Φ2英寸，至Φ6英寸

 

• 碳化硅涂層（最高 3°C）

• TiC3涂層（最高1600°C）

• PG/PBN（最高1200°C）









HT基板加熱加熱器

定制加熱器
，用于超高溫Φ1英寸至Φ6英寸

 

• C/C 復合材料 （最高1700°C）

• 碳化硅涂層（最高 3°C）

• TiC3涂層（最高1900°C）






SH基板加熱加熱器

CVD，高壓/特高壓，惰性和反應性氣體
Φ1英寸至Φ6英寸

 

• 鎳鉻線鉻鎳鐵合金板（最高 850°C）

• 鎢絲 BN 板/鉬蓋 （最高1100°C）









HS 熱舞臺

PVD，高壓/超高壓，惰性/反應氣體
Φ2英寸至Φ8英寸

 

• 有關加熱器部件，請參閱 VH、HT









昆士蘭燈加熱加熱器

鹵素燈加熱器單元

Φ4英寸或Φ6英寸

 

• PVD 燈加熱單元

• 優(yōu)異的升溫特性和均勻性。