orbray小型基材清洗機(jī)介紹

發(fā)布日期：2023-08-21      瀏覽次數(shù)：1068

orbray小型基材清洗機(jī)介紹

小型基材清洗機(jī)是專門對(duì)直徑小于2英寸的小型基材進(jìn)行清洗干燥的設(shè)備。
這是第一臺(tái)能夠?qū)π∮?英寸的小型基材進(jìn)行高水平清洗和干燥的設(shè)備。
迄今為止，要實(shí)現(xiàn)高度的清潔度還很困難，因?yàn)閷?duì)于新材料制成的基板和碎裂基板等小型基板的清洗方法一直無法獲得直徑為2英寸或以上的晶體。僅限于浸洗等方法。因此，在新材料基板尺寸達(dá)到2英寸之前，不可能制造出能夠發(fā)揮材料原有性能的器件。
為了清洗這樣的小型基板，小型基板清洗機(jī)除了在LED用藍(lán)寶石基板的制造過程中積累的清洗技術(shù)之外，還采用了新開發(fā)的小型基板專用的清洗和干燥機(jī)構(gòu)。因此，小型基板清洗機(jī)即使對(duì)于小型基板也能發(fā)揮出高清洗性能，有力地支持了新材料的開發(fā)和裝置化。

特征

適用于小基材的專用刷



新開發(fā)的刷子在去除沉積物方面表現(xiàn)出高性能，并且對(duì)小基材的損傷較小




特殊旋轉(zhuǎn)干燥機(jī)構(gòu)



配備特殊的旋轉(zhuǎn)干燥機(jī)構(gòu)，即使對(duì)于小型基材也能抑制灰塵產(chǎn)生并實(shí)現(xiàn)無水印干燥。

可定制

還可以改變目標(biāo)基板的尺寸并自動(dòng)地從一個(gè)盒轉(zhuǎn)移到另一個(gè)盒。如果您有任何規(guī)格要求，請(qǐng)隨時(shí)與我們聯(lián)系。

清潔目標(biāo)

非常適合清洗晶體材料，如 GaN、AlN、金剛石、藍(lán)寶石、光學(xué)玻璃、生物芯片等。

洗手間布局



1. 基材轉(zhuǎn)移

2. PCB固定

3. 純凈水沖洗

4. 刷子清洗（使用清洗液）

5. 兆聲波清洗

6. 旋轉(zhuǎn)干燥

7. 基材轉(zhuǎn)移

清潔結(jié)果示例

<□5mm藍(lán)寶石基板>



<□5mm GaN襯底>



覆蓋基材原始表面的磨?？梢酝ㄟ^清洗去除。即使在容易損壞的GaN上也沒有形成潛在劃痕，并且確認(rèn)了清潔后沒有損壞。

CL：
電子束入射到樣品上時(shí)的陰極發(fā)光發(fā)射。通過對(duì)這種光進(jìn)行光譜分析，可以觀察晶體中的缺陷。

設(shè)備規(guī)格

除了以下代表性規(guī)格外，還可以進(jìn)行定制。我們還使用該設(shè)備提供合同清潔服務(wù)。請(qǐng)隨時(shí)與我們聯(lián)系。

設(shè)備名稱	小板清洗機(jī)
清潔方法	單晶圓
工作尺寸	□3mm、□4mm、□5mm、φ0.5"、φ1"、φ2" （可提供φ3"、φ4"、φ6"，其他尺寸可根據(jù)要求訂制）
洗滌時(shí)間（推薦洗滌條件）	2分鐘/張（從裝料到卸料）
設(shè)備配置	基材轉(zhuǎn)移
	擦洗（可調(diào)節(jié)刷子高度）
	兆聲波清洗（頻率：950kHz）
	旋轉(zhuǎn)干燥（轉(zhuǎn)速：~3,000rpm）
	HEPA過濾器
裝置尺寸（毫米）	480 寬 x 600 深 x 1,680 高
設(shè)備重量（公斤）	200
公用事業(yè)	氣泵（外置）：0.5MPa以上
	純水（推薦清洗條件）：400ml/張
	電源：100VAC單相1,000W