日本 acxys 等離子體設(shè)備ULCoat系列 氨法脫硫設(shè)備

日本 acxys 等離子體設(shè)備ULCoat系列

通過在放電后向等離子體中注入前驅(qū)體，ULCoat系列可以在處理過的表面上沉積薄膜。

ULCoat是一款可將前驅(qū)體汽化并注入等離子體中，后由噴嘴完成薄膜沉積的系統(tǒng)。ULCoat系列需要與ULS OMEGA系列配合使用。
ULCoat系列的標準版本是為了允許使用有機金屬作為前驅(qū)體進行氧化硅（SiOx）的沉積而設(shè)計的。當然，我們也可以根據(jù)要求開發(fā)其他薄膜成分。
您可以與我們的研發(fā)實驗室合作，在研發(fā)合同的框架下，定制您的專屬解決方案。

ULCoat系列技術(shù)特點

• – 與ULS OMEGA系列搭配使用

• – 薄膜沉積

• – 沉積厚度范圍從50至1000納米

• – 沉積薄膜厚度均勻（+/- 2%）

• – 中高處理速度可達200nm.cm2/s

• – 專為氧化硅(SiOx)的沉積進行優(yōu)化

噴嘴

在注入等離子體之前，液態(tài)前驅(qū)體的流速是可以控制的。該模塊由幾個部分組成。

• – 前驅(qū)體儲存罐

• – 前驅(qū)體流量控制單元

• – 氣體流量控制單元

• – 加熱器模塊（可選）

直觀的數(shù)字觸控屏

• – 內(nèi)置觸摸屏（OEM版本除外）

• – 直觀的控制方式

• – 多語言界面

• – 故障檢測和診斷

• – 實時顯示指令

適用氣體

• – 空氣

• – 氮氣

• – 其他混合氣體

日本 acxys 等離子體設(shè)備ULCoat系列

ULCoat系列的優(yōu)勢

• – 工作溫度低

• – 沉積薄膜厚度均勻（+/- 2%）

• – 可以研究其他類型的沉積

• – OpenFlow版本可用于開發(fā)新的沉積工藝