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      nippon二氧化硅/氧化鋁球形顆粒

      訪問次數(shù):1784

      更新日期:2024-03-31

      簡要描述:

      nippon二氧化硅/氧化鋁球形顆粒
      由高純度粉碎粉末在大氣中加熱熔化(噴霧法)制成的亞微米至100微米顆粒制成球形。
      純度高、填充性和流動性優(yōu)異的球形細顆粒主要用作半導體封裝材料和散熱材料的填料。

      nippon二氧化硅/氧化鋁球形顆粒
      品牌其他品牌

      nippon二氧化硅/氧化鋁球形顆粒

      由高純度粉碎粉末在大氣中加熱熔化(噴霧法)制成的亞微米至100微米顆粒制成球形。
      純度高、填充性和流動性優(yōu)異的球形細顆粒主要用作半導體封裝材料和散熱材料的填料。

      二氧化硅球形顆粒
      二氧化硅球形顆粒
      氧化鋁球形細顆粒
      氧化鋁球形細顆粒

      使用案例

      說明圖


      nippon二氧化硅/氧化鋁球形顆粒

      等級表

      它用作保護半導體芯片的密封劑的填料。

      1.通用型
      產(chǎn)品名稱d50比表面積二氧化硅鈉+氯-篩網(wǎng)
      微米平方米/克-%百萬分之一百萬分之一微米
      HS-10227.01.50.8999.90.20.172
      HS-10328.01.70.9099.90.20.172
      HS-10621.02.70.9399.80.20.172
      HS-10926.02.40.9499.90.20.175
      HS-11216.03.40.9499.80.20.172
      HS-20820.02.40.9699.80.20.153
      HS-20918.02.50.9699.80.20.145
      HS-20612.03.20.9799.90.30.132
      HS-2079.53.50.9899.90.30.120
      HS-30428.00.70.9499.80.20.175
      HS-30817.01.00.9799.90.30.150
      HS-3129.52.30.9599.90.20.250
      2.細粉
      產(chǎn)品名稱d50比表面積二氧化硅鈉+氯-篩網(wǎng)
      微米平方米/克-%百萬分之一百萬分之一微米
      HS-3112.27.60.9899.00.80.1-

      (注)以上數(shù)值為典型值。

      *可根據(jù)您的要求適應各種粒度、篩目等。請聯(lián)系我們。

      主要用作散熱片材和薄膜中的填料,用于保護電子設備免受熱影響。它具有高溫下的熱穩(wěn)定性和陶瓷顆粒之間的高導熱性等特性,有望用作電動汽車等下一代汽車的部件。

      1.AZ系列
      產(chǎn)品名稱d50比表面積電導率鈉+氯-三氧化二鋁篩網(wǎng)
      微米平方米/克微秒/厘米百萬分之一百萬分之一%微米
      AZ2L-7531.378.099.975
      AZ4-750.6631.599.975
      AZ10-75110.331.099.975
      AZ35-125370.260.499.9125
      AZ75-150750.20.599.9150

      (注)以上數(shù)值為典型值。

      2.AY系列
      產(chǎn)品名稱d50比表面積電導率鈉+氯-三氧化二鋁篩網(wǎng)
      微米平方米/克微秒/厘米百萬分之一百萬分之一%微米
      AY2-7531.3358013.599.975
      AY4-750.620301.599.975
      AY10-75110.330500.899.975
      AY35-125370.220300.599.9125
      AY75-150750.250800.599.9150

      (注)以上數(shù)值為典型值。

      *可根據(jù)您的要求適應各種粒度、篩目等。請聯(lián)系我們。




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